Máquina de recubrimiento de película delgada de cobre, planta de deposición por pulverización de película delgada conductora de oro, sistema de recubrimiento por pulverización de plata
CobreRecubridor de vacío de pulverización catódica de magnetrón
1) La controlabilidad del espesor de la película y la repetibilidad del pozo pueden ser un sistema confiable de espesor preenchapado de las películas y pulverización catódica en una superficie más grande de película uniforme;
2) La adherencia de la película y el sustrato es muy buena.Parte de la alta energía de los átomos pulverizados para producir diferentes niveles de fenómeno de inyección, capa de pseudodifusión formada en la capa de sustrato de átomos pulverizados y átomos de sustrato fusionados entre sí;
3) Preparación de material especial de la película, puede usar diferentes materiales y pulverización de película híbrida, película compuesta, también puede pulverizarse en la película de oro de imitación TiN.
CobreEspecificaciones de la recubridora al vacío de pulverización catódica con magnetrón
| Máquina de recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón | ||||||
| Actuación | RTSP-700 | RTSP-900 | RTSP-1000 | RTSP-1250 | RTSP-1400 | RTSP-1600 |
| Tamaño de la cámara de recubrimiento | 700*H900mm | 900*H1100mm | 1000*H1200mm | 1250*H1350mm | 1400*H1600mm | 1600*H1800mm |
| Tipo de fuente de alimentación | Fuente de alimentación de filamento, fuente de alimentación de polarización de pulso, fuente de alimentación de magnetrón de CC, fuente de alimentación de magnetrón de frecuencia intermedia, fuente de alimentación de magnetrón de radiofrecuencia, fuente de ionización lineal | |||||
| Estructura de la cámara de vacío | Puerta doble vertical, estructura de puerta delantera vertical, sistema de escape de aire trasero | |||||
| Material de la cámara de vacío | Cavidad de acero inoxidable de alta calidad | |||||
| Límite de vacío | 6,0*10-4Pa | |||||
| Tiempo de bombeo (sin carga) | Bombea la atmósfera a 8.0*10-3>Pa ≤15 minutos | |||||
| Sistema de adquisición de vacío | Bomba de difusión o bomba molecular + bomba Roots + bomba mecánica + bomba rotativa de paletas (el modelo específico se puede configurar según los requisitos del cliente) | |||||
| Modo de recubrimiento | Recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón | |||||
| Tipo de filme | Película metálica, película reactiva, película compuesta, película multicapa y película semiconductora | |||||
| Tipo de objetivo de magnetrón | Blanco de magnetrón rectangular, blanco de magnetrón cilíndrico y blancos de magnetrón gemelos | |||||
| Energía de suministro de magnetrón y número de objetivos de magnetrón | Seleccione de acuerdo con los diferentes procesos de recubrimiento y los requisitos del cliente. | |||||
| Fuente de alimentación polarizada | 10KW/1 unidad | 20KW/1 unidad | 20KW/1 unidad | 30KW/1 unidad | 40KW/1 unidad | 50KW/1 unidad |
| Modo giratorio de la mesa giratoria de la pieza de trabajo | Revolución planetaria y autorrotación, regulación de velocidad de frecuencia variable (controlable y ajustable) | |||||
| gas de proceso | Sistema de visualización y control de flujo de gas de proceso de 3 o 4 vías, sistema de gasificación automática selectiva | |||||
| Modo de enfriamiento | Modo de enfriamiento de circulación de agua, torre de agua de enfriamiento o enfriador de agua industrial o sistema de enfriamiento profundo.(Proporcionado por los clientes) | |||||
| Modo de control | Modo de integración manual/automático, operación de pantalla táctil, PLC o control por computadora | |||||
| Poder total | 30KW | 35KW | 40KW | 50KW | 65KW | 80KW |
| Alarma y protección | Alarma de escasez de agua, sobrecorriente y sobretensión, circuito abierto y otras condiciones anormales de bombas, objetivos, etc., y ejecute las medidas de protección pertinentes y la función de enclavamiento eléctrico. | |||||
| Área de equipos | W2m*L3m | W2.5m * L3.5m | W3m*L4m | W4m*L5m | W4.5m * L6m | W5m*L7m |
| Otros parámetros técnicos | Presión del agua ≥0.2MPa, temperatura del agua ≤25°C, presión del aire: 0.5-0.8MPa | |||||
| Observaciones | La configuración específica del equipo de recubrimiento se puede diseñar de acuerdo con los requisitos del proceso de los productos de recubrimiento. | |||||
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