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| Nombre De La Marca: | ROYAL |
| Número De Modelo: | RTSP1200 |
| Cuota De Producción: | 1 sistema |
| Precio: | Negociable |
| Condiciones De Pago: | L/C,T/T |
| Capacidad De Suministro: | 8 sistemas por mes |
Deposición de tántalo, metales preciosos de oro por pulverización
La pulverización se utiliza ampliamente para depositar metales refractarios como el tántalo, el titanio, el tungsteno,Niobio, que requeriría temperaturas de deposición muy altas, y metales preciosos: oro y plata y que también se utiliza para la deposición de los metales de menor punto de fusión como cobre, aluminio, níquel, cromo, etc.
El tántalo es el más utilizado en la electrónica industriacomo recubrimiento protector debido a su buena resistencia a la erosión.
Las películas de tántalo pulverizadas se utilizan ampliamente en el
1- industria de la microelectrónica, ya que las películas pueden ser pulverizadas reactivamente y, por lo tanto, la resistividad y el coeficiente de temperatura de la resistencia pueden controlarse;
2Instrumentos médicos como los implantes corporales por su alta propiedad de biocompatibilidad.
3. recubrimientos de piezas resistentes a la corrosión, tales como pozos térmicos, cuerpos de válvulas y elementos de sujeción;
4.El tántalo pulverizado también se puede utilizar como una barrera de resistencia a la corrosión eficaz si el recubrimiento es continuo, defectuoso y se adhiere al sustrato..
Tecnología real¿Qué quieres decir?Sistema de deposición de pulverización de tantalo estandarizado: modelo RTSP1000.
Propiedades de las películas pulverizadas con tántalo:
Resistencia baja
Revestimientos de superficie resistentes a la corrosión y al desgaste que sean: Las condiciones de trabajo y de trabajo de los trabajadores en el sector de la construcción y de la construcción son las siguientes:
Características del diseño:
Diseño robusto, calidad estable, ciclo rápido, sistema de alta precisión
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Configuraciones principales |
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Modelo |
RTSP1000 |
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La tecnología |
Pulverización de magnetrones de CC + recubrimiento de arco catódico |
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Material de las cámaras |
Acero inoxidable (S304) |
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Tamaño de la cámara |
Φ1000*16Se aplicará el procedimiento siguiente: |
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Tipo de cámara |
Forma D, cámara cilíndrica |
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Sistema de rotación de la plataforma y de los jigs |
Sistema de conducción por satélite o sistema de conducción central |
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Las fuentes de energía eléctrica |
Fuente de alimentación de pulverización de CC: 2 ~ 4 juegos Fuente de iones: 1 juego |
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Material para el depósito |
Ti/Cr/TiAl, Ta, Au, Ag, Cu y así sucesivamente |
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Fuente de depósito |
Cátodos de pulverización plana + catodos de arco circular |
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Control de las emisiones |
PLC ((controlador lógico programable) + pantalla táctil |
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Sistema de bombeo |
Pumpas de válvula rotativa: SV300B - 1 juego - ¿ Qué pasa? |
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Pumpas de raíces: WAU1001 - 1 juego (Leybold) |
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Pompas de retención: D60C - 1 juego (Leybold) |
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Bomba molecular de suspensión magnética: |
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Control de flujo de masa de gas |
2canales: Ar y N2 |
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El valor de las emisiones de CO2 |
Inficon o Leybold |
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Sistema de seguridad |
Numerosos bloqueos de seguridad para proteger a los operadores y equipos |
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Calentamiento |
Las demás:20¿Qué es eso? Temperatura máxima: 450°C |
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El sistema de refrigeración |
Refrigerador industrial (agua fría) |
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Power Max. ¿Qué quieres decir? |
El valor de las emisiones de gases de efecto invernadero es el valor de las emisiones de gases de efecto invernadero. |
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Consumo medio de energía |
El valor de las emisiones de gases de efecto invernadero es el valor de las emisiones de gases de efecto invernadero. |
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Peso bruto |
T (aproximadamente) |
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Impresión de pie |
¿Qué es eso? Cuota de mercado del producto |
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Energía eléctrica |
Las líneas de AC 380V/3 fases/50HZ / 5 |
Estructura del equipo:
Estructura del sistema de revestimiento: orientación vertical, estructura octogonal, 2 puertas para facilitar el acceso.
Sistema respetuoso con el medio ambiente, sin residuos peligrosos.
Integración total, diseño modular
Comercializado y estandarizado para la producción industrial en masa
Fuente de iones extremadamente eficiente para una fuerte adhesión y alta ionización.
Fácil operación: pantalla táctil + control PLC, una operación de toque
Diseño especial del sistema de carrusel para una deposición de alta uniformidad.
Alta productividad y estabilidad, trabajando las 24 horas del día.
Flexibles, adecuados para diferentes tamaños de placas
Componentes clave
Fuente de iones para el proceso de depósito asistido:
Fuente de iones para el proceso de iteching de plasma:
La máquina RT1200-FCEV es un sistema de pulverización por lotes que puede depositar varios recubrimientos duros, suaves,películas compuestas y películas lubricantes sólidas en los sustratos de materiales metálicos y no metálicosSe aplica a las industrias de vehículos de pila de combustible de hidrógeno, productos fotónicos, aeroespacial y otras industrias de nuevas energías.
Ejecuciones de las películas de deposición
Para mejorar la conductividad de la superficie;
Alta resistencia a la corrosión;
Alta resistencia al desgaste;
Alta dureza
Películas de composición hidrófoba y otras películas funcionales
Disponible para recubrimientos compuestos: películas metálicas y no metálicas.
Rango de espesor de la película de 100 nm a 12 μm, tolerancia de espesor ± 5%
Tiene una fuerte adhesión.
Tratamiento de endurecimiento superficial de las piezas de baja templanza.
Tipo de vehículo:
Orientación vertical, estructura octal, 2 puertas (delantera y trasera)
Ventajas del diseño:
El equipo de Royal Tech tiene el honor de servirle con nuestro mejor servicio y conocimiento.
