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| Nombre De La Marca: | ROYAL |
| Número De Modelo: | RTSP |
| Cuota De Producción: | 1 juego |
| Precio: | Negociable |
| Condiciones De Pago: | L/C,T/T |
| Capacidad De Suministro: | 5 juegos por mes |
La plata de revestimiento directo PVD en filtros dieléctricos de cerámica es una tecnología de recubrimiento avanzada aplicada con estaciones base 5G y otros semiconductores para industrias electrónicas.Una aplicación típica es el sustrato radiante cerámico. Deposición de película conductora de plata/cobre sobre óxido de aluminio (Al2O3), sustratos de AlN mediante tecnología de pulverización al vacío PVD,tiene sobre todo una gran ventaja en comparación con los métodos de fabricación tradicionales: DBC LTCC HTCC, que tiene costes de producción mucho más bajos. Royal Technology’s team collaborated with our customer to develop the PVD Silver Plating process successfully applying with sputtering technology which can replace conventional liquid silver brushing process.
Aplicaciones típicas
Sólo para nombrar algunos, para más solicitudes, por favor póngase en contacto con Royal Tech.
El sistema RTAS1215 es la versión mejorada, el sistema más nuevo tiene varias ventajas:
Proceso más eficiente
1. El revestimiento de doble cara está disponible por diseño de fijación de rotación
2Hasta 8 bridas catódicas planas estándar para múltiples fuentes
3- Gran capacidad de hasta 2,2 m2 de chips cerámicos por ciclo
4- Totalmente automatizado, PLC + pantalla táctil, sistema de control con un solo toque
Costo de producción más bajo
1Equipado con 2 conjuntos de bombas moleculares de suspensión magnética, tiempo de arranque rápido, mantenimiento gratuito
2Potencia máxima de calefacción
3. Forma octogonal de la cámara para un uso óptimo del espacio, hasta 8 fuentes de arco y 4 cátodos de pulverización para la deposición rápida de recubrimientos
Especificaciones técnicas
Modelo: RTSP-Ag1215
Altura de la cámara (mm): 1500
Diámetro de la cámara (mm): φ1200
Freno de montaje de catodos de pulverización: 4
Freno de montaje de fuente iónica: 1
Freno de montaje de cátodos de arco: 8
Los satélites (mm): 16 x Φ150
Potencia de sesgo pulsado (KW): 36
Potencia de pulverización (KW): DC36 + MF36
Potencia de arco ((KW): 8 x 5
Potencia de la fuente iónica (KW): 5
Potencia de calefacción (KW): 36
Altura efectiva del revestimiento (mm): 1020
Puma molecular de suspensión magnética: 2 x 3300 L/S
Pumpas de raíces: 1 x 1000 m3/h
Pampilla de válvula rotativa: 1 x 300 m3/h
Pumpas de retención: 1 x 60 m3/h
Capacidad: 2,2 m2
Área de instalación (L x W x H) mm: 4200*6000*3500
En el interior
Tiempo construido: desde 2016
Cantidad: 3 juegos
Ubicación: China
En comparación con la enorme demanda del mercado, la productividad del sistema de lotes es baja;Hemos dedicado el desarrollo del sistema de pulverización en línea (línea de deposición de pulverización continua) con dispositivos de carga / descarga automáticos de robotsCualquiera que esté interesado en este sistema, por favor póngase en contacto con nuestro técnico para más especificaciones.
