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| Nombre De La Marca: | ROYAL TECHNOLOGY |
| Número De Modelo: | RTSP900-RTSP1400-RTSP1800 |
| Cuota De Producción: | 1 sistema |
| Precio: | Negociable |
| Condiciones De Pago: | L/C, T/T |
| Capacidad De Suministro: | 10 sistemas/mes |
La tecnología de recubrimiento por pulverización magnética permite que los espejos tengan una demanda de alto rendimiento debido a su rápida tasa de deposición.
Es poco probable que el sistema de pulverización en línea, el bajo coste de producción hace posible que los empresarios que están tratando de comenzar el negocio con una baja inversión.
Características
Tecnología verde, proceso respetuoso con el medio ambiente;
La rueda de cromo PVD es un 80% más ligera que las ruedas cromadas
Se pueden generar acabados de cromo negro PVD / cromo brillante PVD / neocromo PVD
Royal Technology ofrece 3 máquinas estándar para satisfacer las diferentes demandas de productividad:
RTSP 900, capacidad 1 pieza; pequeño tamaño, principalmente para el servicio de reparación
RTSP1400, capacidad 4 piezas; tamaño medio, para fabricación a pequeña escala
RTSP1800, capacidad 8 piezas; gran tamaño, para ruedas de vehículos de producción masiva
Especificaciones técnicas
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Descripción |
Para el espejo del coche | Para ruedas de automóviles | ||
| RTSP1400-PLUS: el sistema de gestión de las emisiones de gases de escape | RTSP900 | RTSP1400: las condiciones de los servicios de seguridad. | RTSP1800: las condiciones de los productos | |
| Objetivos disponibles | Crominio, aluminio, acero inoxidable, cobre, latón, titanio, plata, etc. | |||
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Capacidad
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Máximo 4,86 m2 |
Tamaño máximo: 27" x 1 unidad
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Tamaño máximo 25" x 4 unidades Tamaño máximo: 27" x 2 unidades |
Tamaño máximo: 22" x 8 unidades
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| Sala de declaración |
φ1400 *H1600 mm
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φ900 * H900 mm
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φ1400 * H1600 mm
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φ1800 * H1800 mm
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Diámetro de carga (Más que) |
6*φ360 mm | 1 eje | 1 eje |
4 ejes * φ560 mm
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| Altura de la carga (Eficaz) |
Las demás: | Las demás: | Las demás: | Cubierto |
| Fuentes de deposición |
4 juegos de pulverizadores de cilindros 1 juego de pulverizadores planos |
2 juegos de pulverizadores planos W125*L850mm | 2 juegos de pulverizadores planos W125*L1350mm | 2 juegos de pulverizadores planos W125*L1650mm |
| Potencia de pulverización | Max. 40KW | Max. 30KW | Max. 40KW | Max. 60KW |
| Sistema de operación y control |
Normas CE Pantalla táctil de Mitsubishi PLC + Programa de operación con respaldo
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¿Qué es la tecnología de pulverización de magnetrones?
La pulverización por magnetrón es otra forma de tecnología de recubrimiento PVD.
Revestimiento por plasma
La pulverización por magnetrón es un proceso de recubrimiento por plasma mediante el cual el material de pulverización se expulsa debido al bombardeo de iones a la superficie objetivo.La cámara de vacío de la máquina de recubrimiento PVD se llena con un gas inerteAl aplicar un alto voltaje, se crea una descarga de brillo, lo que resulta en la aceleración de los iones a la superficie objetivo y un recubrimiento de plasma.Los iones de argón expulsarán materiales de pulverización de la superficie objetivo (pulverización), lo que resulta en una capa de recubrimiento pulverizada en los productos frente al objetivo.
Pulverización reactiva
A menudo se utiliza un gas adicional, como nitrógeno o acetileno, que reacciona con el material expulsado (esputado reactivo).Una amplia gama de recubrimientos pulverizados se puede lograr con esta técnica de recubrimiento PVDLa tecnología de pulverización por magnetrón es muy ventajosa para recubrimientos decretivos (por ejemplo, Ti, Cr, Zr y nitruros de carbono), debido a su suavidad.La misma ventaja hace que el pulverizador de magnetrones sea ampliamente utilizado para recubrimientos tribológicos en los mercados de la automoción (e.g..g. CrN, Cr2N y varias combinaciones con recubrimiento DLC - Diamond Like Carbon coating).
Campos magnéticos
La tecnología de pulverización por magnetrón es algo diferente a la tecnología general de pulverización.Intensificando el bombardeo de ionesUn plasma de alta densidad es el resultado de esta tecnología de revestimiento PVD.
La tecnología de pulverización por magnetrón se caracteriza por:
