El sistema de deposición de alto vacío CsI950 está diseñado exclusivamente para la metalización CsI y TII en pantallas de centelleo en un entorno de vacío extremadamente alto.Los centelleadores CsI de 200～600 µm en rangos de espesor con alta uniformidad de espesor y rendimiento de brillo:
resolución espacial ultraalta de imágenes;
Respuesta rápida para imágenes más nítidas;
Áreas de imagen de borde a borde de vanguardia de clase;
Capas absorbentes ópticas o capas reflectoras;
Baja dosis de rayos X del paciente.
Sustratos aplicados:Vidrio TFT, placa de fibra óptica, placa de carbono amorfo, placa de aluminio
Solicitud:para control e inspección de seguridad, educación en física de alta energía, detección de radiación nuclear e imágenes médicas: examen de tórax, mamografía, interoral dental y panorámica.
Ventajas técnicas
Royal Technology ofrece 2 modelos de máquinas: CsI950 y CsI950A+
El modelo CsI950A+ se actualiza en base al CsI950 de 1ª generación, sus ventajas:
1. Eficiencia
-El modelo CsI-950A+ tiene una estructura de 2 bastidores giratorios basada en el modelo Generation -one CsI-950.
-Doble capacidad para máx.tamaño sustrato: 500 x400mm.
2. Repetibilidad y reproducibilidad
-A través del sistema de control de parámetros de alta precisión,
-Software y programa de control de procesos automatizados,
-Operación fácil de usar.
3. Confiabilidad
-Operación continua las 24 horas del día, los 7 días de la semana;
-Controlador de espesor de película Inficon para monitorear el espesor de la película en línea.
-Precisión de control de temperatura: ± 1 ℃, configuración de varias etapas, registro y control automático de datos de temperatura
- Cremalleras rotativas equipadas con Servo-Motor para alta precisión y estabilidad.
4. Seguridad
-Bomba de alto vacío: bomba molecular de suspensión magnética, con dispositivo de soplado de gas nitrógeno para evitar la exposición de materiales peligrosos en el aire;
-Todos los electrodos están equipados con manguitos de protección de seguridad.
Parámetros técnicos
| Descripción | CSI-950 |
CSI-950A+
|
|
Cámara de deposición (mm)
|
φ950 x H1350 |
φ950 x H1350
|
| Carga de bastidores rotativos | 1 | 2 |
| Fuentes de evaporación | 2 |
2
|
| Método de calentamiento |
Lámpara de tungsteno de yodo máx.1800℃ |
Lámpara de tungsteno de yodo máx.1800℃ |
| Presión de vacío máxima (Pa) | 8,0 × 10-5Pa | 8,0 × 10-5Pa |
| Bomba molecular de suspensión magnética | 1x3400L/S |
1x3400L/S
|
| Bomba de raíces | 1x490m³/h |
1x490m³/h
|
| Bomba rotativa de paletas | 1x300m³/h |
1x300m³/h
|
| Controlador de deposición | Control de cuarzo x 1 |
Control de cuarzo x 1
|
| Consumo de energía (kilovatios) |
máx.aprox.62 Promedio aprox.32 |
máx.aprox.sesenta y cinco Promedio aprox.35 |
dentro del sitio
Ubicación: China
