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Detalles de los productos

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máquina de capa de la farfulla del magnetrón
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Sistema de pulverización de magnetrón desequilibrado de campo cerrado

Sistema de pulverización de magnetrón desequilibrado de campo cerrado

Nombre De La Marca: ROYAL
Número De Modelo: RTSP1000
Cuota De Producción: 1 sistema
Capacidad De Suministro: 10 sistemas por mes
Información detallada
Lugar de origen:
China
Certificación:
CE
Tecnología:
Impulso de campo cerrado de pulso de pulsadores magnéticos desequilibrados
Objetivos:
Ta, Ni, Cr, Ti, Au, Ag, SS, Cu, Zr, Al y demás.
Garantización:
Garantía limitada 1 año gratis, toda la vida para la máquina
Revestimiento:
Máquina PVD, recubrimiento al vacío
Servicio postventa prestado:
Ingenieros disponibles para el servicio de maquinaria en el extranjero, servicio de mantenimiento y
Aplicación:
Producción industrial en masa, laboratorio de I+D
Ubicación de la fábrica:
Ciudad de Shangai, China
Servicio mundial:
Polonia - Europa; Irán Asia y Medio Oriente del oeste, Turquía, la India, México Suramérica
Servicio de entrenamiento:
Operación de máquina, mantenimiento, recetas de proceso de capa, programa
OEM y ODM:
disponibles, apoyamos diseño y la fabricación específicos
Detalles de empaquetado:
Exporte el estándar, para ser embalado en los nuevos casos/los cartones, convenientes para el océano
Capacidad de la fuente:
10 sistemas por mes
Resaltar:

Sistema desequilibrado de la farfulla del magnetrón

,

Máquina de capa de la farfulla del magnetrón de la forma de D

,

Frecuencia intermedia PVD Ion Plating Machine

Descripción del producto

Los procesos de magnetrones de campo desequilibrado y cerrado tienen todas las ventajas de los magnetrones planos.

  • Bombardeo de iones adicionales que resultan en películas densas y adherentes
  • Asistencia iónica y limpieza del sustrato posible
  • Mejoras en las películas tribológicas, resistentes al desgaste y a la corrosión
  • Adaptable a películas multicapa, superrelatas, nanolaminantes y nanocompuestos
  • Menor uso de materiales
  • Configuración de cátodo más compleja/gastos

La pulverización de magnetrones de campo desequilibrado y cerrado revolucionó las propiedades alcanzables por los procesos de pulverización de magnetrones.resistencia a la corrosión y propiedades ópticas como esta tecnología fueEn el próximo blog nos trasladaremos a los procesos de magnetrones rotativos y cilíndricos y a las aplicaciones de películas finas resultantes.

--- Sobre el Ártico desdeP E T E R M A R T I N

La tecnología real desarrolló catodos de pulverización de alto rendimiento y alto uso objetivo, especialmente para el pulverización de metales raros y caros: Au Gold, Ta Tantalum, Ag plata deposición de películas metálicas.El sistema de deposición de la película de alta uniformidad ha estado sirviendo a varias industrias como piezas electrónicas, componentes de instrumentos médicos que requieren una alta uniformidad de la película, deposición de múltiples capas.

La máquina RTSP1000 es una máquina estandarizada desarrollada por Royal Technology.


Sistema de pulverización de magnetrón desequilibrado de campo cerrado 0   Sistema de pulverización de magnetrón desequilibrado de campo cerrado 1

Limpieza de plasma de fuente de iones lineal y deposición asistida: por favorHaga clic aquípara ver el video


Sistema de pulverización de magnetrón desequilibrado de campo cerrado 2


Por favor, póngase en contacto con nosotros para más especificaciones, Royal Technology tiene el honor de proporcionarle soluciones de recubrimiento total.