Sistema de la farfulla de la máquina de capa de la farfulla del magnetrón de la frecuencia media/frecuencia intermedia
La vacuometalización de la farfulla del magnetrón es un tipo de menthod del tratamiento superficial de galjanoplastia del ion de PVD. Puede ser utilizada para la producción de películas que conducen o no que conducen, en muchos tipos materiales: metales, vidrio, de cerámica, plástico, aleación del metal. El concepto de la deposición de la farfulla: se reduce el material de revestimiento (blanco, también nombrada cátodo) y los pedazos del trabajo (substratos, también llamados ánodo) se ponen en la cámara de vacío y la presión. La farfulla es iniciada poniendo la blanco bajo voltaje differintial e introduciendo el gas del argón que forma los iones del argón (descarga de resplandor). Los iones del argón aceleran hacia la blanco de proceso y desplazan los átomos de la blanco. Estos átomos de la farfulla después se condensan sobre el substrato y forman capa muy fina y alta de la uniformidad. Los diversos colores pueden ser alcanzados introduciendo los gases reactivos como, el nitrógeno, el oxgen, o el acetileno en los gass de la farfulla durante proceso de la capa.
Modelos de la farfulla del magnetrón: DC que farfulla, frecuencia intermedia que farfulla, farfulla del RF
¿Qué la frecuencia intermedia está farfullando?
Comparado con DC y el RF que farfullaban, la frecuencia media que farfullaba se ha convertido en una técnica principal de la farfulla de la película fina para la producción en masa de la capa, particularmente para la deposición de la película de las capas dieléctricas y no-conductoras de la película en superficies tales como capas ópticas, paneles solares, capas múltiples, película etc. del material compuesto.
Está substituyendo la farfulla del RF debido a ella actuó con el kilociclo bastante que el megaciclo para una tarifa de deposición mucho más rápida y también puede evitar el envenenamiento de la blanco durante la deposición compuesta de la película fina como DC.
Las blancos de la farfulla de la frecuencia intermedia existieron siempre con los dos-sistemas. Dos cátodos se utilizan con una corriente de la CA cambiada hacia adelante y hacia atrás entre ellas cuáles limpian la superficie de la blanco con cada revocación para reducir el aumento de la carga en los dieléctricos que ése lleva a la formación de arcos que puede arrogar gotitas en el plasma y prevenir crecimiento de película fina uniforme--- cuál es lo que llamamos Target Poisoning.
Funcionamiento de sistema de la farfulla de la frecuencia intermedia
1. Última presión del vacío: mejore que los torres 5.0×10-6.
2. Presión de funcionamiento del vacío: Torres 1.0×10-4.
3. Tiempo de Pumpingdown: a partir de 1 atmósfera a 1.0×10-4 Torr≤ 3 minutos (la temperatura ambiente, seca, limpia y vacia la cámara)
4. Metalización del material (que farfulla + evaporación del arco): Ni, Cu, AG, Au, Ti, Zr, Cr, lata, tic, TiAlN, CrN, CrC, etc.
5. Modelo de funcionamiento: Automáticamente /Semi-Auto/ lleno manualmente
Estructura de sistema de la farfulla de la frecuencia intermedia
La máquina de la vacuometalización contiene el sistema de la llave terminado enumerado abajo:
1. Cámara de vacío
2. Sistema de bombeo de vacío de Rouhging (paquete de la bomba del forro)
3. Sistema de bombeo de alto vacío (magnético bomba molecular de la suspensión)
4. Sistema eléctrico del control y de la operación
5. Sistema de la instalación de Auxiliarry (subsistema)
6. Sistema de la deposición: Cátodo de la farfulla de la frecuencia intermedia, fuente de alimentación de la frecuencia intermedia, fuente de ion diagonal de la fuente de alimentación para opcional
Especificaciones del sistema RTSP1212-MF de la farfulla de la frecuencia intermedia
| MODELO | RTSP1212-MF | ||||||
| TECNOLOGÍA | Magnetrón de la frecuencia intermedia que farfulla + galjanoplastia del ion | ||||||
| MATERIAL | Acero inoxidable (S304) | ||||||
| TAMAÑO DE LA CÁMARA | Φ1250*H1250mm | ||||||
| TIPO DE LA CÁMARA | Cilindro, vertical, 1 puerta | ||||||
| SISTEMA DE LA FARFULLA | Exclusivamente diseño para la deposición negra fina de la película | ||||||
| MATERIAL DE LA DEPOSICIÓN | Aluminio, plata, cobre, Chrome, acero inoxidable, Níquel |
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| FUENTE DE LA DEPOSICIÓN | 2 sistemas que la farfulla cilíndrica de la frecuencia intermedia apunta + 8 dirigieron fuentes catódicas del arco | ||||||
| GAS | Maneras MFC 4, AR, N2, O2, C2H2 | ||||||
| CONTROL | PLC (regulador programable de la lógica) + | ||||||
| SISTEMA DE BOMBA | SV300B - 1 sistema (Leybold) | ||||||
| WAU1001 - 1 fija (Leybold) | |||||||
| D60T- 2sets (Leybold) | |||||||
| Bombas moleculares de Turbo: 2* F-400/3500 | |||||||
| TRATAMIENTO PREVIO | Fuente de alimentación diagonal: Kilovatio 1*36 | ||||||
| SISTEMA DE SEGURIDAD | Dispositivos de seguridad numerosos para proteger a operadores | ||||||
| ENFRIAMIENTO | Agua fría | ||||||
| PODER ELÉCTRICO | 480V/3 phases/60HZ (los E.E.U.U. obedientes) | ||||||
| 460V/3 phases/50HZ (Asia obediente) | |||||||
| 380V/3 phases/50HZ (EU-CE obediente) | |||||||
| HUELLA | L3000*W3000*H2000mm | ||||||
| PESO TOTAL | 7,0 T | ||||||
| HUELLA | (L*W*H) 5000*4000 *4000 MILÍMETRO | ||||||
| DURACIÓN DE CICLO | 30~40 minutos (dependiendo del material del substrato, geometría del substrato y condiciones ambientales) |
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| MÁXIMO DEL PODER. | 155 KILOVATIOS | ||||||
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PODER MEDIO CONSUMO (APROXIMADAMENTE) |
75 KILOVATIOS |
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