EMI del teléfono celular que protege capas shileding de la EMI de la metalización/PVD de las películas en el teléfono móvil
Capas shileding de la EMI de PVD: Película de película metálica, semitransparente, EMI del teléfono móvil, NCVM, película dieléctrica.
Material de revestimiento shileding de la EMI de PVD: Cu, plata, acero inoxidable, Ni, Cr etc.
El tratamiento superficial shileding de la EMI se ha aplicado con la industria del teléfono celular por años. Nuestros clientes son:
Sumgsung, Iphone, Lenovo, teléfonos de Huawei fabrica.
EMI que protege la máquina de pintar del vacío:
Ventajas shileding de la capa de la EMI de PVD:
1) El proceso es respetuoso del medio ambiente
2) inversión baja y alto reembolso para el dueño;
3) producción en grandes cantidades, ciclo rápido, bajo costo;
4) el diseño único es operación amistosa y mantenimiento bajo.
Prueba shileding de la capa de la EMI de PVD (solamente para la referencia)
EMI que protege propiedades de la capa de la película
Espesor del film: 1,5 ~ 3 micrones dependen del requisito.
Resistencia de la película: (ohmio) mejor que 0.5Ω
Adherencia: cinta 3M810 > 5B
Especificaciones shileding de la capa de la EMI de PVD
| MODELO | RTEP1616-SP | ||||||
| TECNOLOGÍA |
EVAPORACIÓN TERMAL, TUNGSTENO, FILAMENTO, descarga de resplandor, magnetrón farfulla |
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| MATERIAL | Acero inoxidable (S304) | ||||||
| TAMAÑO DE LA CÁMARA | Φ1600*1600mm (h) | ||||||
| TIPO DE LA CÁMARA | Cilindro, vertical, 2 puertas | ||||||
| SISTEMA DE EVAPORTATION | DISEÑO EXCLUSIVO PARA la metalización de la EMI | ||||||
| MATERIAL DE LA DEPOSICIÓN | Plata, cobre, acero inoxidable, níquel | ||||||
| FUENTE DE LA DEPOSICIÓN | Cátodo de la farfulla del FILAMENTO + de DC del TUNGSTENO | ||||||
| CONTROL | PLC (regulador programable de la lógica) + pantalla táctil | ||||||
| SISTEMA DE BOMBA | Bomba de vacío rotatoria de Pistonr | ||||||
| Bomba de vacío rotatoria de la paleta | |||||||
| Bomba de vacío de raíces | |||||||
| Bomba de Diffussion + arroyos Polycold | |||||||
| TRATAMIENTO PREVIO | Limpieza del plasma | ||||||
| SISTEMA DE SEGURIDAD | Dispositivos de seguridad numerosos para proteger operadores y el equipo | ||||||
| ENFRIAMIENTO | Agua fría | ||||||
| PODER ELÉCTRICO | 480V/3 phases/60HZ (los E.E.U.U. obedientes) | ||||||
| 460V/3 phases/50HZ (Asia obediente) | |||||||
| 380V/3 phases/50HZ (EU-CE obediente) | |||||||
| HUELLA | L9000*W4200*H3000mm | ||||||
| PESO TOTAL | 10,5 T | ||||||
| DURACIÓN DE CICLO |
20 minutos (dependiendo del material del substrato, geometría del substrato y condiciones ambientales) |
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| MÁXIMO DEL PODER. | 80KW | ||||||
| CONSUMO DE ENERGÍA MEDIA (APROXIMADAMENTE) | 45KW |
Éntrenos en contacto con por favor para más especificaciones, tecnología real se honra para proporcionarle soluciones totales de la capa.
