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Detalles de los productos

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Máquina de la vacuometalización de PVD
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Tantal ((Ta) Sistema de deposición por pulverización magnética-RT1000-Ta

Tantal ((Ta) Sistema de deposición por pulverización magnética-RT1000-Ta

Nombre De La Marca: ROYAL
Número De Modelo: RT1000-Ta
Cuota De Producción: 1 sistema
Precio: Negociable
Condiciones De Pago: L/C,T/T
Capacidad De Suministro: 5 sistemas por mes
Información detallada
Lugar de origen:
HECHO EN CHINA
Certificación:
CE
Nombre:
Máquina de deposición por pulverización PVD de tántalo
Capas:
Tantal, oro, plata y demás.
Tecnología:
Pulso de pulsación de corriente continua
Aplicación:
Industria de la microelectrónica, instrumentos médicos, recubrimientos de piezas resistentes a la co
Propiedades de la película:
El tántalo es más utilizado en la industria electrónica como recubrimiento protector debido a su bue
Ubicación de la fábrica:
Ciudad de Shangai, China
Servicio mundial:
Polonia - Europa; Irán Asia y Medio Oriente del oeste, Turquía, la India, México Suramérica
Servicio de entrenamiento:
Operación de máquina, mantenimiento, recetas de proceso de capa, programa
Garantización:
Garantía limitada 1 año gratis, toda la vida para la máquina
OEM y ODM:
disponibles, apoyamos diseño y la fabricación específicos
Detalles de empaquetado:
Estándar de la exportación, ser embalado en los nuevos casos/los cartones, convenientes para el océa
Capacidad de la fuente:
5 sistemas por mes
Resaltar:

vacuum coating plant

,

high vacuum coating machine

Descripción del producto

La pulverización magnética se utiliza ampliamente para depositar metales refractarios como el tántalo, el titanio, el tungsteno,Niobio, que requeriría temperaturas de deposición muy altas, y metales preciosos: oro y plata y que también se utiliza para la deposición de metales de puntos de fusión más bajos como cobre, aluminio, níquel, cromo, etc.

El tántalo es el más utilizado en la electrónicaindustriacomo recubrimiento protector debido a su buena resistencia a la erosión.

Aplicaciones de la película delgada de tántalo pulverizado:
1- industria de la microelectrónica, ya que las películas pueden ser pulverizadas reactivamente y, por lo tanto, la resistividad y el coeficiente de temperatura de la resistencia se pueden controlar;

  1. Instrumentos médicos como los implantes corporales por su alta propiedad de biocompatibilidad;
  2. Los componentes de las máquinas de la categoría ML1 incluyen las máquinas de las categorías ML2 y ML4.
  3. El tántalo pulverizado también se puede utilizar como una barrera de resistencia a la corrosión eficaz si el recubrimiento es continuo, defectuoso y se adhiere al sustrato..

Tantal ((Ta) Sistema de deposición por pulverización magnética-RT1000-Ta 0Tantal ((Ta) Sistema de deposición por pulverización magnética-RT1000-Ta 1


Ventajas técnicas

  1. Se aplica un carrito estandarizado que permite la carga/descarga fácil y segura de los soportes de sustrato y las piezas de trabajo dentro y fuera de la cámara de deposición.
  2. El sistema está bloqueado de seguridad para evitar el funcionamiento incorrecto o prácticas peligrosas
  3. Los calentadores de sustrato se proporcionan que montado en el centro de la cámara, PID controlado termoparejo para una alta precisión, para mejorar la adhesión de la película de condensación
  4. Configuraciones de bombas de vacío fuertes con bomba molecular de suspensión magnética a través de una válvula de puerta conectada a la cámara; respaldada con la bomba de raíces de Leybold y la bomba de veleta rotativa de dos etapas, bomba mecánica.
  5. Con este sistema se aplica una fuente de plasma ionizado de alta energía para garantizar la uniformidad y la densidad.


    Tantal ((Ta) Sistema de deposición por pulverización magnética-RT1000-Ta 2Tantal ((Ta) Sistema de deposición por pulverización magnética-RT1000-Ta 3


El sistema de deposición de pulverización de tántalo estandarizado de Royal Technology:

Configuraciones principales
Modelo NT1capacidad de producción
La tecnología

Pulso de pulsos de magnetrón de corriente continua

Revestimiento de arco catódico (opcional, determinado por el proceso de recubrimiento)

Material de las cámaras Acero inoxidable (S304)
Tamaño de la cámara Se aplicarán las siguientes medidas:
Tipo de cámara Forma D, cámara cilíndrica
Sistema de rotación de la plataforma y de los jigs Sistema de conducción por satélite o sistema de conducción central
Las fuentes de energía eléctrica

Fuente de alimentación de pulverización de CC: 2 ~ 4 juegos
Bias Fuente de alimentación: 1 juego

Fuente de iones: 1 juego

Material para el depósito Ta, Ti/Cr/TiAl, Au, Ag, Cu, etc.
Fuente de depósito Cátodos de pulverización plana + cátodos de arco circular
Control de las emisiones PLC (controlador lógico programable) + IPC
(modelos de operación manual + automática + semiautomática)
Sistema de bombeo Pampilla de válvula rotativa: SV300B 1 juego (Leybold)
Pumpas de raíces: WAU1001 1 juego (Leybold)
Pompas de retención: D60C 1 juego (Leybold)
Bomba molecular de suspensión magnética:
El objetivo de la medida es el de reducir el riesgo de contaminación.
Control de flujo de masa de gas 2 canales: Ar y N2
El valor de las emisiones de CO2 Inficon o Leybold
Sistema de seguridad Numerosos bloqueos de seguridad para proteger a los operadores y equipos
Calentamiento Calentadores: 20 kW. Temperatura máxima: 450 °C
El sistema de refrigeración Refrigerador industrial (agua fría)
Power Max. ¿Qué quieres decir? El valor de las emisiones de gases de efecto invernadero es el valor de las emisiones de gases de efecto invernadero.
Consumo medio de energía El valor de las emisiones de gases de efecto invernadero es el valor de las emisiones de gases de efecto invernadero.
Peso bruto T (aproximadamente)
Impresión de pie (L*W*H) 4000*4000*3600 MM
Energía eléctrica

Las líneas de AC 380V/3 fases/50HZ / 5


En el interior:

Tiempo de construcción: 2018

Ubicación: China

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