August 10, 2018
------------------- El artículo está por Donald M. Mattox
El ion que platea (IP) es un proceso físico de (PVD) de la deposición de vapor que se llama deposición ayudada ion (IAD) o deposición de vapor del ion (IVD) y es a veces una versión de la deposición de vacío. La galjanoplastia del ion utiliza el bombardeo concurrente o periódico del substrato, y deposita la película por las partículas enérgicas atómico-clasificadas. El bombardeo antes de la deposición se utiliza para farfullar limpio la superficie del substrato. Durante la deposición el bombardeo se utiliza para modificar y para controlar las propiedades de la película de depósito. Es importante que el bombardeo sea continuo entre la limpieza y las porciones de la deposición del proceso mantener un interfaz atómico limpio.
En el ion que platea la energía, el flujo y la masa de la especie de bombardeo junto con el ratio de partículas de bombardeo a las partículas de depósito son variables de proceso importantes. El material de depósito se puede vaporizar por la evaporación, la farfulla (la farfulla diagonal), la vaporización del arco o por la descomposición de una deposición de vapor químico química del precursor del vapor (CVD). Las partículas enérgicas usadas para el bombardeo son generalmente iones de un gas inerte o reactivo, o, en algunos casos, de iones del material de condensación de la película (“iones de la película "). La galjanoplastia del ion se puede hacer en un ambiente del plasma donde los iones para el bombardeo se extraen del plasma o puede ser hecha en un ambiente del vacío donde los iones para el bombardeo se forman en un arma de ion separado. La última configuración de la galjanoplastia del ion a menudo se llama deposición ayudada (IBAD) del haz de ion. Usando un gas o un vapor reactivo en el plasma, las películas de materiales compuestos pueden ser depositadas.
La galjanoplastia del ion se utiliza para depositar las capas duras de materiales compuestos en las herramientas, las capas de metal adherentes, las capas ópticas con altas densidades, y las capas conformales en superficies complejas.
La tecnología real de Shangai desarrolló la vacuometalización estandardizada serie de varios PVD automatizada la técnica de la galjanoplastia del ion, aplicada extensivamente con las diversas capas decorativas y las películas funcionales como: capas duras, propiedades que llevan de la corrosión y del rasguño, alta conducción y capas reflexivas.
Estas máquinas equiparon el dispositivo del bombardeo del ion para el tratamiento previo de la limpieza del plasma, lo introducen en el gas del iner como AR, H2 a acritive la superficie del substrato, aprueban la adherencia entre el substrato y las películas del depostion.
La capa de enlace se requiere para el substrato especial a veces. La tecnología real que apunta proporciona las soluciones de llavero totales de la capa para cada usuario final.
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