December 11, 2017
Información general sobre proceso de PVD
Los procesos de PVD son el proceso atomístico de la deposición en el cual los materiales vaporizados de una fuente se transportan bajo la forma de vapor con un vacío o ambiente gaseoso o del plasma de baja presión al substrato, donde condensa. Los procesos de PVD se pueden utilizar para depositar las películas de elementos y de moléculas y también del compuesto
materiales por la reacción del material de depósito con el ambiente ambiente del gas. (e.g., lata) o con un co
material de depósito (e.g. tic). Típicamente, los procesos de PVD se utilizan para depositar las películas con grueso en el rango de algunos nanómetros a los millares de nanómetros; sin embargo, pueden ser utilizados para formar los depósitos de la calificar-composición de capas de múltiples capas, los depósitos muy gruesos, y las estructuras libres.
La tecnología real apunta mejorar nuestro nivel de vida con el avance de soluciones respetuosas del medio ambiente de la capa.
