December 11, 2017
Información general
1. en la galjanoplastia utiliza bombardeo enérgico concurrente o periódico de la partícula de la película de depósito para modificar y para controlar la composición y las propiedades de la película de depósito.
2. El material de depósito se puede vaporizar por la evaporación, la farfulla, vaporización del arco, o la otra fuente de la vaporización.
3. Las partículas enérgicas usadas para el bombardeo son generalmente iones de un gas inerte o reactivo, o de iones del material de depósito (iones de la película).
4. La galjanoplastia del ion se puede hacer en un ambiente del plasma donde los iones para el bombardeo se extraen del plasma
Ventajas de la galjanoplastia del ion
1. La energía significativa es introducida en la superficie de la película de depósito por el bombardeo enérgico de la partícula.
2. La cobertura superficial puede ser mejorada sobre la evaporación del vacío y farfullar la deposición debido al gas que dispersa y “los efectos de la re-deposición de la farfulla”.
3. El bombardeo controlado se puede utilizar para modificar propiedades de la película tales como adherencia, densidad, tensión residual de la película, propiedades ópticas.
4. Las propiedades de la película son menos dependientes en la “ángulo-de-incidencia” del flujo del material de depósito que con farfulle la deposición y limpie la evaporación con la aspiradora debido a la dispersión del gas, a “sputtering/re-deposition”, y a los efectos de “martilleo” atómicos.
5. El bombardeo se puede utilizar para mejorar la composición química del material de la película por “reacciones químicas bombardeo-aumentadas” y de la farfulla de la especie O.N.U-reaccionada de la superficie cada vez mayor.
6. En algunos usos que el plasma se puede utilizar “active” la especie reactiva y cree las nuevas especies químicas que se absorben más fácilmente para ayudar en el proceso reactivo de la deposición (la galjanoplastia reactiva del ion)
Desventajas de la galjanoplastia del ion
1. Hay muchas variables de proceso a controlar.
2. Es a menudo difícil obtener el bombardeo uniforme del ion sobre la superficie del substrato, llevando a las variaciones de la película-propiedad sobre la superficie.
3. La calefacción del substrato puede ser excesiva.
4. Bajo algunas condiciones el gas de bombardeo se puede incorporar en la película creciente.
5. Bajo tensión compresiva residual excesiva de la película de algunas condiciones puede ser generado por el bombardeo.
6. La galjanoplastia del ion se utiliza para depositar las capas duras de materiales compuestos, las capas de metal adherentes, las capas ópticas con altas densidades, y las capas conformales en superficies complejas.
7. Gotitas que pudieron las influencias la superficie de la capa.
