Especificación de fuentes de pulverización catódica de magnetrón
Características clave
1. Diseño de campo magnético de elementos finitos
2. Imán aislado del agua de refrigeración
3. Compatible con potencias DC/MF y RF
4. Alta utilización de objetivos
5. Dirección de expulsión ajustable
6. Alta densidad de potencia y excelente uniformidad.
7. Elección de modo equilibrado y desequilibrado
8. Utilización objetivo: > 80 %
Aplicaciones:
Para deposición de colores oro rosa, negro azabache, azul y recubrimiento de película conductora.Se puede instalar en sistemas de recubrimiento de pulverización catódica de magnetrón de PVD verticales y horizontales.
Comuníquese con nosotros para obtener más especificaciones, Royal Technology tiene el honor de brindarle soluciones de recubrimiento total