| nombre | equipo de la detección de escape del helio |
|---|---|
| Tipo | Detector de escape del gas del helio |
| Función | Pequeño volumen, ligero; Estructura condensada |
| Función | Diverso modo de prueba, capacidad de detectar 4He. 3He y H2 |
| Interfaz múltiple | RS232/485 interfaz, interfaz digital del IO |
| nombre | Detector de escape del helio |
|---|---|
| Aplicación | Detección que se escapa de la máquina del vacío |
| Detección del material | 4He. 3He y H2, |
| Detalles de empaquetado | Exporte el estándar, para ser embalado en los nuevos casos/los cartones, convenientes para el océano |
| Tiempo de entrega | 1 semana |
| Aplicación | Supervisión e inspección del escape |
|---|---|
| Detección del material | Helio, 4He. 3He y H2 |
| Interfaz | Módulo RS232/485 |
| Detalles de empaquetado | Exporte el estándar, para ser embalado en los nuevos casos/los cartones, convenientes para el océano |
| Tiempo de entrega | 1 semana |
| Aplicación | Detección que se escapa del vacío |
|---|---|
| modelo | Portátil |
| Interfaz | Módulo RS232/485 |
| Detalles de empaquetado | Exporte el estándar, para ser embalado en los nuevos casos/los cartones, convenientes para el océano |
| Tiempo de entrega | 1 semana |
| Aplicaciones | Fuentes de la farfulla del magnetrón equilibradas y cátodos desequilibrados de la farfulla del magne |
|---|---|
| Materiales de la deposición | Ti, Cr, Zr, Al, Cu, AG, Au, ITO etc. |
| Conducción del modelo | FRECUENCIA INTERMEDIA, DC, RF |
| Ubicación de la fábrica | Ciudad de Shangai, China |
| Ubicación de la fábrica | Ciudad de Shangai, China |
| Usos | Las fuentes de la farfulla del magnetrón equilibraron y desequilibraron los cátodos de la farfulla d |
|---|---|
| Materiales de la deposición | Ti, Cr, Zr, Al, Cu, AG, Au, ITO etc. |
| Conducción del modelo | FRECUENCIA INTERMEDIA, DC, RF |
| Material | SS304 SS316, barras magnéticas |
| Ubicación de la fábrica | Ciudad de Shangai, China |
| Aplicaciones | capas duras, capas decorativas en los metales, aceros, vidrio, cerámica etc. |
|---|---|
| Materiales de la deposición | Ti, Cr, Zr, TiAl etc. |
| Conducción del modelo | CC |
| Modelo de enfriamiento | Agua de enfriamiento |
| certification | ISO |
| Usos | Fuentes Ion Source linear del plasma de la capa del ánodo en la deposición auxiliar del plasma del s |
|---|---|
| Conducción del modelo | Frecuencia intermedia |
| Modelo de enfriamiento | Agua de enfriamiento |
| Alta luz | refrigeración por agua confiable/el soportar de alto voltaje |
| lon | 50~800eV |
| Aplicaciones | Fuentes del plasma de Pasillo de la fuente de ion de Pasillo en capas duras, la capa de la película |
|---|---|
| Modelo de enfriamiento | Agua de enfriamiento |
| Detalles de empaquetado | Exporte el estándar, para ser embalado en los nuevos casos/los cartones, convenientes para el océano |
| Tiempo de entrega | 2 semanas |
| Condiciones de pago | CARTA DE CRÉDITO, D/A, D/P, T/T |
| Ubicación de la fábrica | Ciudad de Shangai, China |
|---|---|
| Servicio mundial | Polonia - Europa; Irán Asia y Medio Oriente del oeste, Turquía, la India, México Suramérica |
| Servicio de entrenamiento | Operación de máquina, mantenimiento, recetas de proceso de capa, programa |
| Garantía | Garantía limitada 1 año gratis, toda la vida para la máquina |
| OEM Y ODM | disponibles, apoyamos diseño y la fabricación específicos |
