Características del equipo de recubrimiento PVD cerámico:
1. La cámara de vacío es vertical con una puerta abierta, fabricados en acero inoxidable 304, el diámetro interno de la cámara de vacío es de φ1400 mm-Φ2000 mm;
2. Sistema de Vacío por Bomba Rotativa de Paletas, Bomba Roots y Bombas de Difusión de Aceite o Constitución de Bomba Molecular;
3. El sistema de recubrimiento utiliza 1-2 magnetismo de frecuencia intermedia para controlar la fuente de energía de pulverización catódica, tiene 1-2 pares de magnetismo no balanceado para controlar el objetivo y tiene 14-40 fuentes de arco.
4. Fuente de alimentación de polarización de pulso de alta eficiencia;
5. El sistema de gasificación utiliza el medidor de flujo másico gaseoso de producción nacional o importado, el medidor de control (de demostración) de cantidad de flujo de gas;
6. El circuito eléctrico de establecimiento del sistema controlado eléctricamente se sobrecarga, corta el suministro de agua, muere el dispositivo de alarma acústica-óptica;
7. Sistema de control (pantalla táctil + PLC), parámetro detallado de visualización en tiempo real, control completamente automático de todo el proceso de producción y parámetro tecnológico de memoria automática.
Equipo de recubrimiento PVD - RTAC1618 Especificaciones
| MODELO | RTAC1618 | ||
| MATERIAL | Acero inoxidable (S304) | ||
| TAMAÑO DE LA CÁMARA | Φ1600*1800mm (H) | ||
| SISTEMA DE BOMBA | Bomba de vacío de pistón rotativo (mecánica) | ||
| Bomba de vacío de paletas rotativas (retención) | |||
| Bomba de vacío de raíces | |||
| Bomba de difusión | |||
| TECNOLOGÍA | Recubrimiento de iones (fuentes de arco múltiple) | ||
| OBJETIVOS TÍPICOS | cromo, titanio, circonio, TiAl | ||
| GAS | Medidores de flujo másico de gas (Ar, N2,) Argón, Nitrógeno | ||
| CONTROL | PLC (controlador lógico programable) | ||
| SISTEMA DE SEGURIDAD | Numerosos enclavamientos de seguridad para proteger a los operadores y el equipo | ||
| ENFRIAMIENTO | Reciclaje de agua de refrigeración | ||
| CALEFACCIÓN | Calentador, hasta 300 ℃ | ||
| POTENCIA MÁX. | 150KW (aprox.) | ||
| CONSUMO MEDIO DE ENERGÍA | 70KW (aprox.) | ||
Equipo de recubrimiento PVD cerámicotoma la tecnología de recubrimiento de iones para evaporar metales sólidos como titanio, cromo mediante una fuente de arco catódico y condensar los metales ionizados en la superficie del producto para generar la película delgada nano en un entorno de alto vacío.Con el gas reactivo como: Nitrógeno para generar varios colores.
Hay otros tamaños de máquinas personalizados disponibles en función de las dimensiones específicas del producto y la demanda de capacidad.
Modelo | RTAC-1008 | RTAC-1012 | RTAC-1215 | RTAC-1416 | RTAC-1618 | ||||||
| Tamaño interior de la cámara | 1000x800mm | 1000x1200mm | 1200x1500mm | 1400x1600mm | 1600x1600mm | ||||||
| Tipo de fuente de alimentación | Fuente de alimentación de arco, fuente de alimentación de filamento, fuente de alimentación de polarización de pulso | ||||||||||
| Estructura de la cámara de vacío | Estructura vertical de la puerta delantera, sistema de escape de aire trasero y cámara de enfriamiento de agua de doble capa | ||||||||||
| Material de la cámara de vacío | acero inoxidable 304/316L | ||||||||||
| Vacío definitivo | 6.0x10-4Pa (descarga, limpieza, cámara de secado) | ||||||||||
| Velocidad de bombeo al vacío | de la atmósfera a 8.0*10-3Pa ≤15 minutos | ||||||||||
| Sistema de bombeo de vacío | Bomba de difusión o bomba molecular + bomba Roots + bomba mecánica + bomba de retención (el modelo específico se puede seleccionar según los requisitos del cliente) | ||||||||||
| fuente de arco | 6 unidades o 8 unidades | 8 unidades o 10 unidades | 10 unidades o 12 unidades | 14 unidades o 16 unidades | 16 unidades o 18 unidades | ||||||
| Fuente de alimentación polarizada | 20KW/juego | 20KW/juego | 30KW/juego | 40KW/juego | 50KW/juego | ||||||
| modelo de conducción | Revolución y rotación planetaria, regulación de velocidad de frecuencia variable (controlable y ajustable) | ||||||||||
| Sistema de calefacción | Controlable y ajustable desde temperatura ambiente hasta 450°C (Control de temperatura PID) | ||||||||||
| CMF | Sistema de visualización y control de flujo de gas de proceso de 3 o 4 vías, sistema de gasificación automática selectiva | ||||||||||
| Sistema de refrigeración | Modo de enfriamiento de circulación de agua, torre de agua de enfriamiento o enfriador de agua industrial o sistema de enfriamiento profundo.(Proporcionado por los clientes) | ||||||||||
| Modo de control | Modo de integración manual/automático, operación de pantalla táctil, PLC o control por computadora | ||||||||||
| Poder total | 30KW | 35KW | 45KW | 60KW | 75KW | ||||||
| Alarma y protección | Alarma de escasez de agua, sobrecorriente y sobretensión, circuito abierto y otras condiciones anormales de bombas, objetivos, etc., y ejecute las medidas de protección pertinentes y la función de enclavamiento eléctrico. | ||||||||||
| Área de equipos | W2.5m * L3.5m | W3m*L4m | W4m*L5m | W4.5m * L6m | W5m*L7m | ||||||
| Otros parámetros técnicos | Presión del agua ≥0.2MPa, temperatura del agua ≤25°C, presión del aire 0.5-0.8MPa | ||||||||||
| Observaciones | La configuración específica del equipo de recubrimiento se puede diseñar de acuerdo con los requisitos del proceso de los productos de recubrimiento. | ||||||||||
Limas de cerámica Muestras de recubrimiento PVD
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