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Sistema de la deposición de la farfulla del tantalio del carbono de DLC-C TA

1 sistema
MOQ
negotiable
Precio
Sistema de la deposición de la farfulla del tantalio del carbono de DLC-C TA
Caracteristicas Galería Descripción de producto Pida una cita
Caracteristicas
Especificaciones
Nombre: Máquina de la deposición de la farfulla del tantalio PVD
Capas: Tantalio, oro, etc. de plata.
Tecnología: Farfulla pulsada de DC
Uso: Industria de la microelectrónica, instrumentos médicos, capas en piezas resistentes a la corrosión,
Propiedades de la película de TA: El tantalio se utiliza más en la industria electrónica como capa protectora debido a su buena resist
Ubicación de la fábrica: Ciudad de Shangai, China
Ubicación de la fábrica: Ciudad de Shangai, China
Servicio mundial: Polonia - Europa; Irán Asia y Medio Oriente del oeste, Turquía, la India, México Suramérica
Servicio de entrenamiento: Operación de máquina, mantenimiento, recetas de proceso de capa, programa
Garantía: Garantía limitada 1 año gratis, toda la vida para la máquina
OEM Y ODM: disponibles, apoyamos diseño y la fabricación específicos
OEM Y ODM: disponibles, apoyamos diseño y la fabricación específicos
OEM Y ODM: disponibles, apoyamos diseño y la fabricación específicos
Alta luz:

Sistema de la deposición de la farfulla del tantalio

,

Sistema anti de la deposición de la farfulla de la corrosión

,

Sistema pulsado de la deposición de la farfulla de DC

Información básica
Lugar de origen: Hecho en China
Nombre de la marca: ROYAL
Certificación: CE
Número de modelo: RTSP
Pago y Envío Términos
Detalles de empaquetado: Estándar de la exportación, ser embalado en los nuevos casos/los cartones, convenientes para el océa
Tiempo de entrega: 8 a 12 semanas
Condiciones de pago: L/C, T/T
Capacidad de la fuente: 10 sistemas por mes
Descripción de producto

El magnetrón que farfulla es ampliamente utilizado depositar los metales refractarios como el tantalio, el titanio, el tungsteno, el niobio, que requerirían mismas temperaturas altas de la deposición, y los metales preciosos: El oro y la plata y cuál también se utiliza para la deposición de metales más de temperatura de fusión baja de los puntos como el cobre, aluminio, níquel, el cromo etc.

El tantalio se utiliza más en la industria electrónica como capa protectora debido a su buena resistencia a la erosión.

Usos de la película fina del tantalio Sputtered:
1. la industria de la microelectrónica como las películas pueden ser farfulladas reactivo y así el coeficiente de la resistencia y de temperatura de resistencia pueden ser controlados;

  1. Instrumentos médicos como los implantes del cuerpo para su altamente propiedad del biocompatability;
  2. Capas en partes resistentes a la corrosión, tales como thermowells, cuerpos de válvula, y sujeciones;
  3. El tantalio farfullado puede deber también ser utilizado como barrera eficaz de la resistencia a la corrosión si la capa es continua, desertada y es adherente al substrato se piensa proteger.

Sistema de la deposición de la farfulla del tantalio del carbono de DLC-C TA 0Sistema de la deposición de la farfulla del tantalio del carbono de DLC-C TA 1

 

Ventajas técnicas

  1. Se aplica una carretilla estandardizada que permite el cargamento/la descarga fáciles y seguros de los tenedores del substrato y de los pedazos del trabajo adentro de la cámara de la deposición
  2. El sistema es dispositivo de seguridad para prevenir la operación incorrecta o prácticas inseguras
  3. Se proporcionan los calentadores del substrato que montaron en el centro de cámara, PID controlaron el termopar para la alta exactitud, para aumentar para condensar la adherencia de la película
  4. El vacío fuerte bombea configuraciones con magnético la bomba molecular de la suspensión vía la válvula de puerta conectada con la cámara; apoyado con las raíces de Leybold bombee y la bomba de paleta rotatoria de dos fases, bomba mecánica.
  5. La fuente ionizada del plasma de la alta energía se aplica con este sistema para garantizar la uniformidad y la densidad.


    Sistema de la deposición de la farfulla del tantalio del carbono de DLC-C TA 2Sistema de la deposición de la farfulla del tantalio del carbono de DLC-C TA 3

 

Sistema estandardizado de la deposición de la farfulla del tantalio de la tecnología real: RTSP1000

Configuraciones principales
MODELO RTSP1000
TECNOLOGÍA

Farfulla pulsada del magnetrón de DC

Galjanoplastia catódica del arco (para la opción, determinada cubriendo proceso)

MATERIAL DE LA CÁMARA Acero inoxidable (S304)
TAMAÑO DE LA CÁMARA Φ1000*1600mm (h)
TIPO DE LA CÁMARA Forma de D, cámara cilíndrica
ESTANTE DE LA ROTACIÓN Y SISTEMA DE LA PLANTILLA Conducción por satélite o sistema de conducción central
FUENTES DE ALIMENTACIÓN

Fuente de alimentación de la farfulla de DC: 2~4 sistemas
Fuente de alimentación diagonal: 1 sistema

Ion Source: 1 sistema

MATERIAL DE LA DEPOSICIÓN TA, Ti/Cr/TiAl, Au, AG, Cu etc.
FUENTE DE LA DEPOSICIÓN Cátodos planares de la farfulla + cátodos circulares del arco
CONTROL PLC (regulador programable de la lógica) + IPC
(modelos de operación semi-autos de manual+ auto+)
SISTEMA DE BOMBA Vane Pump rotatoria: SV300B – 1 sistema (Leybold)
Las raíces bombean: WAU1001 – 1 sistema (Leybold)
Sostener la bomba: D60C – 1 sistema (Leybold)
Bomba molecular de la suspensión magnética:
MAG2200 – 2 más sest (Leybold)
PROVEA DE GAS EL REGULADOR DEL FLUJO TOTAL 2 canales: AR y N2
INDICADOR DE VACÍO Inficon o Leybold
SISTEMA DE SEGURIDAD Dispositivos de seguridad numerosos para proteger operadores y equipmen
CALEFACCIÓN Calentadores: 20KW. Temporeros máximos.: 450℃
ENFRIAMIENTO Refrigerador industrial (agua fría)
MÁXIMO DEL PODER. 100KW (aproximadamente)
CONSUMO DE ENERGÍA MEDIA 45 kilovatios (aproximadamente)
PESO BRUTO T (aproximadamente)
IMPRESIÓN DEL PIE (L*W*H) 4000*4000 *3600 MILÍMETRO
CORRIENTE ELÉCTRICA

Línea phases/50HZ/5 de la CA 380V/3

 

Insite:

 

Tiempo construido: 2018

Ubicación: China

Sistema de la deposición de la farfulla del tantalio del carbono de DLC-C TA 4

 

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