El sistema desequilibrado de la deposición de la farfulla del magnetrón del campo cerrado, desequilibró el magnetrón que farfullaba a Ion Plating
Los procesos desequilibrados y cerrados del magnetrón del campo tienen todas las ventajas de magnetrones planares. Las ventajas y las desventajas adicionales son:
Magnetrón desequilibrado y cerrado del campo que farfulla las propiedades revolucionadas realizables por procesos de la farfulla del magnetrón. Como acertado con la película fina mejorada tribológica, la resistencia a la corrosión y propiedades ópticas como esta tecnología eran, las mejoras en tecnología del magnetrón acababan de comenzar. Blog siguiente que nos movemos sobre usos del magnetrón de la película fina giratoria y cilíndrica de los procesos y el resultar.
--- Sobre el artículo de P E T E R M AL R T I N
La tecnología real desarrolló la alta producción y los altos cátodos de la farfulla de la utilización de la blanco, especialmente para los metales raros y costosos que farfullaban: Oro del Au, tantalio de TA, deposición de las películas del metal plateado del AG. El sistema de la deposición de la alta película de la uniformidad ha estado sirviendo varias industrias como las piezas de la electrónica, los componentes que requieren arriba uniformidad de la película, deposición múltiple de los instrumentos médicos de las capas.
La máquina RTSP1000 es una máquina estandardizada desarrollada por tecnología real. Extenso se aplicó con el corte/las herramientas de la formación, moldes, instrumentos médicos, componentes de la electrónica, industrias del automóvil.
Configuraciones principales RTSP1000 y parámetros técnicos | ||||||||
MODELO | RTSP1000 | |||||||
TECNOLOGÍA | Magnetrón de la frecuencia intermedia que farfulla + limpieza del plasma de la fuente de ion | |||||||
MATERIAL DE LA CÁMARA | Acero inoxidable (S304) | |||||||
TAMAÑO DE LA CÁMARA | Φ1000*800mm (h) | |||||||
TIPO DE LA CÁMARA | Forma de D | |||||||
ESTANTE DE LA ROTACIÓN Y SISTEMA DE LA PLANTILLA | peso máximo de 6 satélites: 500kgs | |||||||
FUENTES DE ALIMENTACIÓN |
Qty. de la farfulla: Prejuicio del kilovatio 2*24 de la fuente de alimentación: fuente 1*5KW de 1*20W Ion Source Power |
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MATERIAL DE LA DEPOSICIÓN | Ti/Cr/TiAl /Ta/Cu/Au/Carbon etc. | |||||||
FUENTE DE LA DEPOSICIÓN | cátodos planares de la farfulla de 2 pares (4 pedazos) + 1 Ion Source linear Área de la uniformidad: el ±10~15% |
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CONTROL | PLC (regulador programable de la lógica) + pantalla táctil (modelos de operación semi-autos de manual+ auto+) | |||||||
SISTEMA DE BOMBA | Vane Pump rotatoria: SV300B - 1 sistema (Leybold) | |||||||
Las raíces bombean: Sistema de WAU1001- 1 (Leybold) | ||||||||
Sostener la bomba: Sistema de D60C- 1 (Leybold) | ||||||||
Bomba molecular de la suspensión magnética - 1 sistema (Leybold) | ||||||||
PROVEA DE GAS EL REGULADOR DEL FLUJO TOTAL | 4 canales, hechos en China, modelo digital de siete estrellas (serie del CS,) | |||||||
INDICADOR DE VACÍO | Modelo: ZDF-X-LE, hecho en China: ZDF-X-LE | |||||||
FUENTE DE ION LINEAR | 1 pedazo que pretrata, plasma que limpia + deposición ayudada | |||||||
SISTEMA DE SEGURIDAD | Dispositivos de seguridad numerosos para proteger operadores y el equipo | |||||||
CALEFACCIÓN | Calentadores: 30KW. Temporeros máximos.: 450℃ | |||||||
ENFRIAMIENTO | Refrigerador industrial (agua fría) | |||||||
MÁXIMO DEL PODER. | 100KW (aproximadamente) | |||||||
CONSUMO DE ENERGÍA MEDIA | 45 kilovatios (aproximadamente) | |||||||
PESO BRUTO | T (aproximadamente) | |||||||
IMPRESIÓN DEL PIE | (L*W*H) 4000*4000 *3200 MILÍMETRO | |||||||
PODER ELÉCTRICO | CA 380V/3 phases/50HZ/5 líneas |
Deposición planar de la farfulla de la alta utilización de la blanco: HAGA CLIC por favor AQUÍ para mirar el vídeo
Ion Source Plasma Cleaning linear y deposición ayudada: HAGA CLIC por favor AQUÍ para mirar el vídeo
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