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La máquina de capa de la farfulla del magnetrón del oro sobre el vidrio, metal salta, 24K sistema de la deposición del oro PVD

100 juegos
MOQ
La máquina de capa de la farfulla del magnetrón del oro sobre el vidrio, metal salta, 24K sistema de la deposición del oro PVD
Caracteristicas Galería Descripción de producto Pida una cita
Caracteristicas
Especificaciones
Blancos de la farfulla: Carbono, cobre, aluminio, ITO, Ti, Cr, acero inoxidable etc
Tecnología: Cátodo de la farfulla del magnetrón de DC/MF
Prelimpieza: Tratamiento previo linear del plasma de la fuente de ion del ánodo
Ubicación de la fábrica: Ciudad de Shangai, China
Ubicación de la fábrica: Ciudad de Shangai, China
Servicio mundial: Polonia - Europa; Irán Asia y Medio Oriente del oeste, Turquía, la India, México Suramérica
Servicio mundial: Polonia - Europa; Irán Asia y Medio Oriente del oeste, Turquía, la India, México Suramérica
Servicio de entrenamiento: Operación de máquina, mantenimiento, recetas de proceso de capa, programa
Servicio de entrenamiento: Operación de máquina, mantenimiento, recetas de proceso de capa, programa
Garantía: Garantía limitada 1 año gratis, toda la vida para la máquina
OEM Y ODM: disponibles, apoyamos diseño y la fabricación específicos
Alta luz:

magnetron sputtering machine

,

vacuum deposition equipment

Información básica
Lugar de origen: Hecho en China
Nombre de la marca: ROYAL
Certificación: CE certification
Número de modelo: RTSP
Pago y Envío Términos
Detalles de empaquetado: Cartón, caso
Tiempo de entrega: 10 semanas
Condiciones de pago: L/C, T/T, Western Union, MoneyGram, D/P, D/A
Capacidad de la fuente: 120 conjuntos por mes
Descripción de producto

Equipo de la farfulla del cobre/del aluminio/del carbono, sistema de la deposición de la farfulla del magnetrón del alto vacío

 

  • Capa anti de la huella dactilar
  • Plasma que endurece el tratamiento (PHT)
  • El sistema de la deposición de la farfulla de UHV utiliza los cátodos de la farfulla como las fuentes de la deposición de PVD. Comibled siempre la frecuencia intermedia farfulla y DC farfulla para los usos indstrial de la capa de PVD. De acuerdo con diversas blancos y las peticiones de la velocidad de la deposición de la farfulla, la tecnología real proporciona cylidrical farfulla y planar farfulle los cátodos, principalmente para que las tarifas de deposición rápidas satisfagan demanda de la capa de la producción industrial.

     

     

    El sistema de la deposición de la farfulla del magnetrón del alto vacío se diseña para el cobre, alumunium, plástico, galjanoplastia conductora de la capa de la película de la placa de circuito del metal. Puede condensar la película fina nana en los substratos. Excepto el AG que farfulla, puede también depositar Ni, Au, AG, Al, Cr, blancos del acero inoxidable.

    Puede las altas películas de la uniformidad del deposite en los diversos substratos: el panle plástico, panle de la PC, hoja de aluminio, hojas de cerámica, Al2O3 de cerámica, AlN, silicio cubre el etc.

     

     

    Disposición del equipo de la capa de la farfulla RTSP1215

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    Usos del equipo de la capa de la farfulla de la serie de RTSP:

     

    1. Disponible en los substratos de: Hojas del plástico, del polímero, de cristal y de cerámica, acero inoxidable, hoja de cobre, tablero de aluminio etc.

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  • La máquina de capa de la farfulla del magnetrón del oro sobre el vidrio, metal salta, 24K sistema de la deposición del oro PVD 0La máquina de capa de la farfulla del magnetrón del oro sobre el vidrio, metal salta, 24K sistema de la deposición del oro PVD 1La máquina de capa de la farfulla del magnetrón del oro sobre el vidrio, metal salta, 24K sistema de la deposición del oro PVD 2La máquina de capa de la farfulla del magnetrón del oro sobre el vidrio, metal salta, 24K sistema de la deposición del oro PVD 3

  • 2. Para generar la película nana tenga gusto: Lata, tic, TiCN, Cr, CrC, CrN, Cu, AG, Au, Ni, Al etc.

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    Características del diseño del equipo de la capa de la farfulla de la serie de RT-SP:

     

    1. Diseño robusto, bueno para el espacio limitado del sitio

    2. De fácil acceso para el mantenimiento y la reparación

    3. Sistema de bombeo rápido para la alta producción

    4. El recinto eléctrico estándar del CE, estándar de la UL está también disponible.

    5. Ejecución exacta de la fabricación

    6. Funcionamiento estable para garantizar la producción de alta calidad de la película.

     

     

    La fuente de ion es original de la compañía de Gencoa, las propiedades:

     

    1. Campos magnéticos optimizados para producir un haz colimado del plasma en las presiones estándar de la farfulla

    2. Regulación automatizada para que el gas mantenga la corriente y el voltaje constantes – control del auto del multi-gas

    3. Ánodo y cátodo del grafito para proteger el substrato contra la contaminación y para proporcionar componentes duraderos

    4. Aislamiento eléctrico estándar del RF en todas las fuentes de ion

    5. Enfriamiento indirecto del ánodo y del cátodo – transferencia rápida de piezas

    6. Transferencia fácil de las piezas del cátodo para proporcionar las trampas magnéticas múltiples para la operación de tensión inferior, o un haz enfocado

    7. El voltaje reguló la fuente de alimentación con la reacción del ajuste del gas para mantener la misma corriente siempre

     

     

    Especificaciones técnicas del sistema de la deposición de la farfulla del magnetrón del alto vacío:

     

    MODELO RT1215-SP
    MATERIAL Acero inoxidable (S304)
    TAMAÑO DE LA CÁMARA Φ1200*1500mm (h)
    TIPO DE LA CÁMARA estructura 1-door, vertical
    SOLO PAQUETE DE LA BOMBA Bomba rotatoria de VaneVacuum
    Bomba de vacío de raíces
    Bomba molecular de la suspensión magnética
    Bomba de vacío rotatoria de dos etapas de la paleta
    TECNOLOGÍA Magnetrón que farfulla, fuente de la frecuencia intermedia de ion linear
    FUENTE DE ALIMENTACIÓN Fuente de alimentación de la farfulla + fuente de alimentación + fuente de ion diagonales
    FUENTE DE LA DEPOSICIÓN los cátodos de la farfulla de la frecuencia intermedia de 4 pares + la fuente + DC de ion farfulla
    CONTROL Pantalla de PLC+Touch
    GAS Gas metros de flujo total (AR, N2, C2H2, O2) argón, nitrógeno y Ethyne, oxígeno
    SISTEMA DE SEGURIDAD Dispositivos de seguridad numerosos para proteger operadores y el equipo
    ENFRIAMIENTO Agua de enfriamiento
    LIMPIEZA Descarga de resplandor/fuente de ion
    MÁXIMO DEL PODER. 120KW
    CONSUMO DE ENERGÍA MEDIA 70KW

     

     

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