Sistema de cobre de la deposición de la farfulla de la máquina de capa de la farfulla del magnetrón/del magnetrón del alto vacío

Equipo de la farfulla del cobre/del aluminio/del carbono, sistema de la deposición de la farfulla del magnetrón del alto vacío

El sistema de la deposición de la farfulla de UHV utiliza los cátodos de la farfulla como las fuentes de la deposición de PVD. Comibled siempre la frecuencia intermedia farfulla y DC farfulla para los usos indstrial de la capa de PVD. De acuerdo con diversas blancos y las peticiones de la velocidad de la deposición de la farfulla, la tecnología real proporciona cylidrical farfulla y planar farfulle los cátodos, principalmente para que las tarifas de deposición rápidas satisfagan demanda de la capa de la producción industrial. 

Nuestro sistema de la deposición de la farfulla del magnetrón del alto vacío se diseña para el cobre, alumunium, plástico, galjanoplastia conductora de la capa de la película de la placa de circuito del metal. Puede condensar la película fina nana en los substratos. Excepto el AG que farfulla, puede también depositar Ni, Au, AG, Al, Cr, blancos del acero inoxidable.

Puede las altas películas de la uniformidad del deposite en los diversos substratos: el panle plástico, panle de la PC, hoja de aluminio, hojas de cerámica, Al2O3 de cerámica, AlN, silicio cubre el etc. 

Disposición del equipo de la capa de la farfulla RTSP1215

Usos del equipo de la capa de la farfulla de la serie de RTSP:

1. Disponible en los substratos de: Hojas del plástico, del polímero, de cristal y de cerámica, acero inoxidable, hoja de cobre, tablero de aluminio etc.

2. Para generar la película nana tenga gusto: Lata, tic, TiCN, Cr, CrC, CrN, Cu, AG, Au, Ni, Al etc.

Características del diseño del equipo de la capa de la farfulla de la serie de RT-SP:

1. Diseño robusto, bueno para el espacio limitado del sitio

2. De fácil acceso para el mantenimiento y la reparación

3. Sistema de bombeo rápido para la alta producción

4. El recinto eléctrico estándar del CE, estándar de la UL está también disponible.

5. Ejecución exacta de la fabricación

6. Funcionamiento estable para garantizar la producción de alta calidad de la película.

La fuente de ion es original de la compañía de Gencoa, las propiedades:

1. Campos magnéticos optimizados para producir un haz colimado del plasma en las presiones estándar de la farfulla

2. Regulación automatizada para que el gas mantenga la corriente y el voltaje constantes – control del auto del multi-gas

3. Ánodo y cátodo del grafito para proteger el substrato contra la contaminación y para proporcionar componentes duraderos

4. Aislamiento eléctrico estándar del RF en todas las fuentes de ion

5. Enfriamiento indirecto del ánodo y del cátodo – transferencia rápida de piezas

6. Transferencia fácil de las piezas del cátodo para proporcionar las trampas magnéticas múltiples para la operación de tensión inferior, o un haz enfocado

7. El voltaje reguló la fuente de alimentación con la reacción del ajuste del gas para mantener la misma corriente siempre

Especificaciones técnicas del sistema de la deposición de la farfulla del magnetrón del alto vacío:

Componentes claves del equipo de la farfulla del cobre/del aluminio/del carbono:

1. Sistema de bombeo fuerte: Bombas del forro de Leybold + bomba molecular de la suspensión magnética de Osaka

2. Sistema de distribución del gabinete del agua/del gas 

3. Sistema de distribución de los cátodos de la farfulla

Éntrenos en contacto con por favor para más especificaciones, tecnología real se honra para proporcionarle soluciones totales de la capa.