Máquina de plata de la farfulla de la galjanoplastia de la máquina/del ion del chapado en oro de IPG
La máquina del chapado en oro de IPG se utiliza particularmente adentro jewerly, los relojes, relojes, plumas que escriben las piezas de gama alta del instrumento, del bolso y de metal de los zapatos (calificadas los productos como Chloe, el canal, LV, Gucci, Fendi, Miumiu, Hermes etc), piezas de metal electrónicas de los productos como el teléfono, cámara, el control remoto,
El modelo estándar es RTAC1250-SP, la máquina contiene las fuentes dominantes de la deposición de:
1. Dos cátodos de la farfulla de la frecuencia intermedia de los sistemas
2. 1 cátodo planar/del cilindro determinado de DC de la farfulla
3. 1 cátodo determinado del arco del cilindro o 7 cátodos dirigidos cicular del arco de los sistemas
4. 1 unidad determinada de la fuente de ion para el bomboardment de la limpieza del plasma antes de la deposición de PVD, altamente mejorada la adherencia de la película y el color mucho más brillante.
Especificaciones de RTAC1250-SP
| MODELO | RTAC1250-SP | ||||||
| TECNOLOGÍA | Magnetrón que farfulla + galjanoplastia del ion | ||||||
| MATERIAL | Acero inoxidable (S304) | ||||||
| TAMAÑO DE LA CÁMARA | Φ1250*H1250mm | ||||||
| TIPO DE LA CÁMARA | Cilindro, vertical, 1 puerta | ||||||
| SISTEMA DE LA FARFULLA | Exclusivamente diseño para la deposición negra fina de la película | ||||||
| MATERIAL DE LA DEPOSICIÓN | Aluminio, plata, cobre, Chrome, acero inoxidable, Aleación del níquel, del oro, de TiAl, del Au, AG etc. |
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| FUENTE DE LA DEPOSICIÓN | la farfulla cilíndrica de la frecuencia intermedia de 2 sistemas apunta de + fuentes catódicas 1 arco + 1 DC que farfulla + 1 fuente de ion | ||||||
| GAS | Maneras MFC 4, AR, N2, O2, C2H2 | ||||||
| CONTROL | PLC (regulador programable de la lógica) + | ||||||
| SISTEMA DE BOMBA | SV300B - 1 sistema (Leybold) | ||||||
| WAU1001 - 1 fija (Leybold) | |||||||
| D60T- 2sets (Leybold) | |||||||
| Bombas moleculares de Turbo: 2* F-400/3500 | |||||||
| TRATAMIENTO PREVIO | Fuente de alimentación diagonal: Kilovatio 1*36 | ||||||
| SISTEMA DE SEGURIDAD | Dispositivos de seguridad numerosos para proteger a operadores | ||||||
| ENFRIAMIENTO | Agua fría | ||||||
| PODER ELÉCTRICO | 480V/3 phases/60HZ (los E.E.U.U. obedientes) | ||||||
| 460V/3 phases/50HZ (Asia obediente) | |||||||
| 380V/3 phases/50HZ (EU-CE obediente) | |||||||
| HUELLA | L3000*W3000*H2000mm | ||||||
| PESO TOTAL | 7,0 T | ||||||
| HUELLA | (L*W*H) 5000*4000 *4000 MILÍMETRO | ||||||
| DURACIÓN DE CICLO | 30~40 minutos (dependiendo del material del substrato, geometría del substrato y condiciones ambientales) |
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| MÁXIMO DEL PODER. | 155 KILOVATIOS | ||||||
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PODER MEDIO CONSUMO (APROXIMADAMENTE) |
75 KILOVATIOS |
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